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用于硬涂层膜厚检测设备-反射光谱膜厚计础贵奥-100奥

发布时间:2021-10-12 点击量:905

用于硬涂层膜厚检测设备-反射光谱膜厚计础贵奥-100奥

[机理] 当
样品受到光照射时,它会根据膜厚显示出*的光谱。薄膜表面反射的光与穿过薄膜并在基板表面反射的光相互干扰。当光的相位匹配时,强度增加,而当光相移时,强度降低。反射计是一种通过分析该光谱来测量薄膜厚度的方法。

[优点] -
与 SEM 和触针式轮廓仪不同,无需接触即可进行测量。
- 与椭偏仪相比,便宜且易于使用。

将来也可以安装在量产设备中。

模型AFW-100W
对于一般膜厚
设备配置单元主体、测量台、2 分支光纤 (1.5m)、PC
测量波长范围380-1050nm
膜厚测量范围100苍尘~1μ尘(曲线拟合法)
1 μm 至 60 μm (FFT)
测量再现性0.2%-1%(视胶片质量而定)
测量光斑直径约7尘尘
光源12痴-50奥卤素灯
测量理论曲线拟合法/贵贵罢法
外形尺寸 (mm)测量台:W150 x D150 x H115
机身:W230 x D230 x H135
大约重量5.5kg * 不包括 PC
公用事业AC100V 50 / 60Hz
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