离线分光干涉测厚仪的原理及运用
| 模型 | 飞行时间 |
|---|---|
| 测量方法 | 非接触式/光谱干涉测量法 |
| 测量对象 | 电子和光学用透明平滑膜、多层膜 |
| 测量原理 | 光谱干涉仪 |
实现高测量重复性（± 0.01 μm 或更小，取决于对象和测量条件）
不易受温度变化的影响
可以生产用于研究和检查的离线式和在制造过程中使用的在线式。
反射型允许从薄膜的一侧进行测量
仅可测量透明涂膜层（取决于测量条件）
| 测量厚度 | 1～50μ尘（薄材料）、10～150μ尘（厚材料） |
|---|---|
| 测量长度 | 50-5000 毫米 |
| 测量间距 | 1 毫米 ~ |
| 最小显示值 | 0.001微米 |
| 电源电压 | AC100 V 50/60 Hz |
| 工作温度限制 | 5～45℃（测量时温度变化1℃以内） |
| 湿度 | 35-80%（无冷凝） |
| 测量区域 | φ0.6 毫米 |
| 测量间隙 | 约 30 毫米 |
上一篇：适用于磁化器检测的磁通计介绍
下一篇：聚酰亚胺薄膜研发用测厚仪
