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什么是真空溅射设备？

溅射机通常是一个小型密封室，其中高能粒子（如电子）轰击源材料，将原子从表面喷出。然后，这些原子在腔室壁反弹，覆盖腔室内的靶材。可通过扫描电子显微镜（厂贰惭）观察纳米尺度的特征，这主要是依靠样品的导电性，因此往往会先在样品上涂上一层薄薄的铂以供观察。溅射机技术的其他用途包括在半导体工业、平面显示、存储、太阳能电池等领域进行薄膜沉积工作，以及在材料表面层进行蚀刻以确定其化学成分。

惭厂笔-1厂设备专用于厂贰惭观察贵金属薄膜镀层。该设备进行贵金属涂层以防止厂贰惭样品充电并提高二次电子产生效率。除了磁控管靶电极的低压放电外，样品台是浮动的，以减少电子束流入对样品造成的损坏。操作简单，只需按下按钮，没有技巧。它很小，不占用太多空间。在桌子的角落活跃。

用法
SEM 样品的金属涂层设备。

虽然溅射机制备样品的机器可能非常复杂和昂贵，但溅射设备不必如此。这些机器可以是相对简单的设备，只需要根据既定的物理原理运行，并且通常缺少活动部件或需要复杂的维护。它们的尺寸范围小到可以直接摆放在桌面，大到需要摆放在地面。

物理气相沉积是溅射机设计中常用的一种方法。沉积材料在低压下（通常是部分真空）在溅射室中转化为蒸汽。蒸汽冷凝到腔室中的衬底材料上，形成薄膜。这种薄膜只能有几层原子或分子厚度，并且厚度与溅射过程的持续时间成正比。薄膜厚度的其他因素包括所涉及的每种材料的质量和涂层粒子的能级，涂层粒子可以从几十电子伏充电到数千电子伏。