screen用于光刻的黄光SEBAPRO Light技术分析
活跃于各种光刻环境。
光源使用不具有抗蚀剂敏感波长范围的国产高亮度尝贰顿。维护工程师和工艺工程师可以放心使用。高效的驱动电路设计，实现了与白光尝贰顿同等的功耗水平。采用变焦机构，投光区域可通过操作调节环从宽到窄自由调节。
光源使用不具有抗蚀剂敏感波长范围的黄色尝贰顿。
采用高亮度、高效率的驱动电路。实现与白色 LED 相同的省电水平。
平衡合身性和便携性的设计。随附一条带子以确保牢固固定。
一种高强度黄光，非常适合在高级曝光机和涂布机/显影设备等光刻环境中工作。它消除了暴露在白光下的风险，并显着提高了可加工性。
新型号为充电规范搁别惫2。
便于现场检查涂层不均匀性的手持灯。使现场决策更快，大大改善了过程评估和设备条件设置工作。
后继车型于 2021 年 4 月发布。
