迟丑别谤尘辞肠别谤补薄膜实验设备介绍
【惭颈苍颈尝补产系列柔性薄膜实验设备】可根据各种客户要求模块化配置进行定制。 我们还满足高规格要求，如多路溅射、气相沉积、多维同步成膜和多腔室系统。 所有组件都存储在 19 英寸机架（单、双、三）的紧凑框架中，所有操作和数据管理都可以通过单个 7 英寸触摸面板（或 Windows PC）集中管理。 我们通过与手套箱无缝连接、气相沉积掩模/基板自动转换器、去除 1D/PMMA 等抗蚀剂的“软蚀刻"和晶圆级石墨烯合成设备 [nanoCVD-WGP（MiniLab-2 的应用设备）]等原创技术为研究和开发做出贡献。
真空沉积（金属和有机材料）
磁控溅射
电子束沉积
射频/直流等离子体蚀刻
退火
热颁痴顿
相关产物介绍
由于它是模块化的内置类型，因此可以根据所需的膜类型和工艺组装专用机器。 灵活的紧凑型实验设备，可用于各种用途。
通过将笔痴顿腔室存储在骋叠中，可以在“无氧/无湿气"的实验环境中无缝执行气相沉积，飞溅和退火等所有操作。
Φ3英寸和Φ4英寸晶圆尺寸的石墨烯合成器。 通过抑制杂质高速合成清洁、高质量的石墨烯。 它可用于热颁痴顿或低温/高温等离子CVD。
紧凑型台式热壁式热颁痴顿系统。 4.工艺气体系统，高精度APC工艺压力控制。 均匀加热实验可以在反应管中的稳定气氛中进行。
蓝波半导体 PLD1000
