鲍尝颁辞补迟系列可以在处理过的表面上沉积薄膜
通过在放电后向等离子体中注入前驱体，鲍尝颁辞补迟系列可以在处理过的表面上沉积薄膜。
ULCoat是一款可将前驱体汽化并注入等离子体中，后由喷嘴完成薄膜沉积的系统。鲍尝颁辞补迟系列需要与ULS OMEGA系列配合使用。
鲍尝颁辞补迟系列的标准版本是为了允许使用有机金属作为前驱体进行氧化硅（SiOx）的沉积而设计的。当然，我们也可以根据要求开发其他薄膜成分。
您可以与我们的研发实验室合作，在研发合同的框架下，定制您的专属解决方案。
鲍尝颁辞补迟系列技术特点
– 与ULS OMEGA系列搭配使用
– 薄膜沉积
– 沉积厚度范围从50至1000纳米
– 沉积薄膜厚度均匀（+/- 2%）
– 中高处理速度可达200nm.cm?/s
– 专为氧化硅(SiOx)的沉积进行优化
喷嘴
在注入等离子体之前，液态前驱体的流速是可以控制的。该模块由几个部分组成。
– 前驱体储存罐
– 前驱体流量控制单元
– 气体流量控制单元
– 加热器模块（可选）
直观的数字触控屏
– 内置触摸屏（OEM版本除外）
– 直观的控制方式
– 多语言界面
– 故障检测和诊断
– 实时显示指令
适用气体
– 空气
– 氮气
– 其他混合气体
鲍尝颁辞补迟系列的优势
– 工作温度低
– 沉积薄膜厚度均匀（+/- 2%）
– 可以研究其他类型的沉积
– OpenFlow版本可用于开发新的沉积工艺
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