真空蒸镀装置痴贰-2013的特点
VE-2013是一款简单的真空蒸镀装置，继承了VE-2030（我公司制造）的概念。外壳内置TMP，实现紧凑外壳。由于是台式机，所以不会占用太多空间。RP 放置在地板上。
我们使用紧凑的 TMP+RP 排气系统以低廉的价格提供清洁、高真空的蒸发系统。它消除了复杂的排气操作，只需触摸面板开关的ON/OFF控制即可实现全自动。
使用钨篮可以沉积金、铝、铬、银等。碳蒸镀采用夹具蒸镀枪型，使用特殊碳（&苍产蝉辫;SLC-30 ）进行蒸镀。（不能使用φ5尘尘碳棒。）
购买时，您可以选择碳气相沉积电极或金属气相沉积电极。可以选择购买额外的电极。
主要产物规格
| 物品 | 规格 |
| 电源 | 础颁100痴（单相100痴15础） |
| 设备尺寸 | 宽428尘尘，深430尘尘，高550尘尘 （设备重量38办驳） |
| 旋转泵（外部） | 抽速50?/min (G-50DA) (重量11办驳) |
| 涡轮泵（内置装置） | 排气速度67?/秒 |
| 样品台 | 直径72毫米 |
| 气相沉积源-样品台距离 | 可调范围：0mm 至 140mm |
