光谱干涉仪技术在薄膜测厚仪上的运用
| 模型 | FOS |
|---|---|
| 测量方法 | 非接触式/光谱干涉仪 |
| 测量对象 | 电子、光学用透明平滑膜、多层膜 |
| 测量原理 | 光谱干涉仪 |
实现高测量重复性（± 0.01 μm 或更小，取决于对象和测量条件）
不易受温度变化的影响
可以制造用于研究和检查的离线型和制造过程中使用的在线型。
反射型允许从薄膜的一侧测量
只能测量透明涂膜层（取决于测量条件）
| 测量厚度 | 1 至 50 μm（用于薄材料）、10 至 150 μm（用于厚材料） |
|---|---|
| 测量长度 | 50-5000 毫米 |
| 测量间距 | 1 毫米 ~ |
| 最小显示值 | 0.001 微米 |
| 电源电压 | AC100 伏 50/60 赫兹 |
| 工作温度限制 | 5～45℃（测量时温度变化在1℃以内） |
| 湿度 | 35-80%（无冷凝） |
| 测量区域 | φ0.6毫米 |
| 测量间隙 | 约 30 毫米 |
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